原子-外壳

用于核心结构上外壳涂层的旋转反应器ALD

  • 纳米尺寸粉末涂层系统
  • 反应器容积 : > 100cc
  • 过滤器尺寸:可变(从0.5μm至~)
  • 水平旋转系统
  • 前体罐:4EA
  • 工艺温度:室温至350℃(反应器主体:230℃)
  • 反应器旋转:交流电动机
  • 旋转速度:10-120rpm
  • 基础压力:低于20mTorr
  • 应用:粒子、线、管等上的涂层