ATOMIC BASIC(170519)

原子-基础

紧凑型反应器热ALD

  • 紧凑型ALD模型
  • 热ALD
  • 晶片尺寸:≤6英寸晶片
  • 过程温度:高达250摄氏度
  • 应用:氧化膜(三氧化二铝)等
  • 过程体积非常小